Perpustakaan judul masih dalam tahap pengembangan, admin siap menampung kritik dan saran
Rancang Bangun Sistem Pelurusan Masker Pada Proses Fotolitografi
Abdul Kholiq NIM. (2017) | Skripsi | Teknik Komputer , Sistem Komputer , Teknik Komputer , Teknik Komputer
Bagikan
Ringkasan
Pada tugas akhir ini dirancanglah sebuah alat sistem fotolitografi yang berfungsi untuk menyesuaikan pola. Pola yang dibawah harus disesuaikan dengan pola yang di atas. Alat ini menggunakan mikrokontroler arduino mega berfungsi sebagai pengontrol, aplikasi yang dikontrol menggunakan PC telah berhasil menjalankan sistem sesuai yang diinginkan. Kamera atau webcam yang berfungsi untuk memotret pola dapat menampilkan hasil pola yang telah sesuai pada layar aplikasi. Pada pengujian pergerakan kiri, kanan, atas, bawah, dan rotasi setiap pergerakan menghasilkan jarak 1mm. Pada hasil pengujian penyesuian pola dikatakan bahwa pengujian telah berhasil, karena setiap pengujian pola sudah sesuai dengan yang diinginkan.
Ringkasan Alternatif
In this final project is designed a tool of photolithography system that serves to adjust the pattern. The pattern below should be adjusted to the above pattern. This tool uses arduino mega microcontroller serves as a controller, the application is controlled using a PC has been successfully run the system as you wish. A camera or webcam that serves to capture patterns can display the results of the appropriate pattern on the application screen. In testing the movement of left, right, up, down, and rotate each movement produces a distance of 1mm. In the test results of pattern adjustment is said that the test in say successful, because each test pattern is in accordance with the desired.